Imec成功采用EUV光刻技术制造晶圆级固态纳米孔
(全球TMT2025年12月10日讯)Imec首次成功在300毫米晶圆上采用EUV光刻技术制造晶圆级固态纳米孔。纳米孔技术被誉为基因组学和蛋白质组学的变革者,但迄今为止,固态纳米孔因存在变异性和集成难题,始终未能实现大规模生产。这项创新将纳米孔技术从实验室规模的概念转化为可扩展的平台,适用于生物传感、基因组学和蛋白质组学领域。

其采用EUV光刻技术在300毫米晶圆上实现了晶圆级制造,制备出尺寸小至约10纳米的纳米孔,且在整个晶圆上具有高度均匀性。 该制造工艺有潜力实现小于5纳米孔径,随着工艺集成技术的进一步改进,有望取得更大突破。

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