全球TMT2020年2月13日讯，新思科技近日宣布，全球先进半导体技术领导者三星已经采用新思科技定制设计平台，基于Custom Compiler^™设计环境，为其采用远紫外(EUV)光刻技术的5纳米早期低功耗(LPE)工艺进行IP设计。

新思科技定制设计平台是首款面向三星5LPE工艺并提供AMS参考流程支持的定制设计解决方案。这个定制设计平台的主要特征包括可靠性感知验证、参数提取融合技术和视觉辅助版图设计。可靠性感知验证可以确保进行可靠的AMS设计，并带有签核（Sign-off）精度的晶体管级EM/IR分析、大规模蒙特卡洛仿真、老化分析和其它验证检查。采用StarRC^™寄生参数提取的参数提取融合技术通过在版图设计完成之前，支持精确的寄生仿真，来缩短设计收敛时间。视觉辅助自动化是一种减少版图设计工作量的开创性方法，尤其适用于先进节点设计，它已被证明能够提升工作效率。

三星已经为其内部IP设计团队部署了基于新思科技定制设计平台的完整设计流程，以便加速5LPE IP设计。（全球TMT www.tmtnews.tech）