全球TMT2019年11月13日讯，半导体的电路线宽越细，运算处理和存储容量的性能越好，耗电量也将下降，因此半导体厂商一直竞相开发微细化技术。自2010年前后起，技术发展开始停滞，但极紫外线（EUV）光刻这一新技术问世，作为打破目前极限的突破口而受到期待。极紫外线光刻设备由荷兰的ASML垄断，价格被认为每台约合150亿日元，要建立生产线，需要数千亿日元规模，没有资金实力和技术实力难以启动投资。

世界第3大代工企业美国格芯（Global Foundries）难以承受巨额负担，放弃了电路线宽14纳米以后的开发。排在第4位的台湾联华电子（UMC）也没有取得进展。有能力展开巨额投资的仅限于三星、台积电（TSMC）和美国英特尔这“半导体3强”。 （全球TMT www.tmtnews.tech）